專(zhuān)注於膠粘劑的(de)研發製造(zào)
低 VOCs含量(liàng)膠粘劑,環保(bǎo)型水處理劑,新(xīn)型高效、環保催化劑和助劑,功能性膜材料,超淨高純試劑、光刻膠、電子氣體、新型顯示和先(xiān)進封裝材料等電子化學品及關鍵原料的開發與生產。這意味著“水基、熱熔、無溶(róng)劑、輻射固化、改性、生物降解等低VOCs含量的膠粘劑”將進一步(bù)迎來(lái)發展機遇。
光刻(kè)膠所在產業鏈覆(fù)蓋範(fàn)圍十分廣泛,從(cóng)上遊基礎化工材料行業、精細化學品行(háng)業到中遊光(guāng)刻膠製備,到下遊 PCB、麵板、半導體產業,再到電子等應用終端。光刻膠作為(wéi)微電子領域微細圖形加工核心上遊材(cái)料(liào),占據電子材料至高點。
光刻膠又稱光致抗蝕劑,本質是(shì)一種感光材料,是電(diàn)子領域微細圖形加工(gōng)的關鍵性材料,在半導體、LCD、PCB等行業的生產中具有重要作用。近年來,隨著集成電路的快速發展,光(guāng)刻膠行業景氣度不斷(duàn)提高。
2021年(nián)2月,位於日本東北地區最南部的福島縣發生了一場7.3級地震。這場(chǎng)地震雖沒有像2011年那場9級地震一樣(yàng)導致核(hé)電廠泄漏,但卻造成了設立在福島縣周邊半導體工廠(chǎng)的數日停產。汽車芯(xīn)片大(dà)廠(chǎng)瑞薩電子的那坷工(gōng)廠、位於宮城縣的索尼(ní)半導(dǎo)體工廠,與福島鄰近的岩手、群馬(mǎ)等地,也匯集了MLCC廠商TDK和太陽誘電,以及存儲器廠商鎧俠...
光刻膠本質是一種感光材(cái)料,也稱光致抗蝕劑,主要用於微電(diàn)子技術中微細圖形加工。在紫(zǐ)外光(guāng)、電子束、離子束、X射線等照射或輻射下,光刻膠溶解度會發生變化,再經適當溶劑溶去可溶性部(bù)分,便可實現圖形從掩模版到待加工基片上的轉移。進一步(bù),未溶解部分光刻膠作為保護層,在刻蝕步驟中保護其下方材料不被刻蝕,從而完成電路製作。產品分類(lèi)上,...
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