專注於(yú)膠粘劑的研發製造
低 VOCs含(hán)量膠粘劑(jì),環保型水處理劑,新型高效、環保催(cuī)化劑(jì)和助劑,功能性膜材料,超淨高純試劑、光刻膠、電子氣體、新型顯示和(hé)先進封裝材料等電(diàn)子化(huà)學品及(jí)關鍵原料的開發與(yǔ)生產。這意味著“水基、熱熔、無溶劑、輻射固化、改(gǎi)性、生物降解等低VOCs含量的(de)膠粘劑”將進一步迎來發展機遇。
光刻膠所(suǒ)在產業鏈覆蓋範圍十分廣泛,從上遊基礎化工材料行業、精細化學品行業到中遊光刻膠製(zhì)備,到下遊(yóu) PCB、麵板、半導體產業,再到電子等應用終端(duān)。光刻膠作為微電子領域微細圖(tú)形加工(gōng)核心上遊材料,占據電子材料(liào)至高點。
光刻膠又稱光致抗(kàng)蝕劑,本質是一種感光材(cái)料(liào),是電子領域微(wēi)細圖形加工的關(guān)鍵性材料,在半導體、LCD、PCB等行業的生產中具有重要作用。近年來,隨著集成電路的快速發展,光(guāng)刻膠行(háng)業景氣度不斷提高。
2021年2月,位於日(rì)本東北地區最南部的福島縣發生了一場7.3級地震。這場地震雖(suī)沒有像(xiàng)2011年那場9級地震(zhèn)一樣導致核電廠泄漏,但卻造成了設立在福島縣周邊(biān)半導體工廠的數日停產。汽車芯片大廠瑞薩電子的那坷工廠、位於宮(gōng)城(chéng)縣的索尼半導體(tǐ)工廠,與福島鄰近的(de)岩(yán)手、群馬等地,也匯集(jí)了MLCC廠商TDK和太陽誘電,以及存(cún)儲器廠商鎧俠...
光刻膠本質(zhì)是一種感光材料,也(yě)稱光致抗蝕(shí)劑,主要用於微電子技術(shù)中微細圖形加工。在紫外光、電子束、離(lí)子(zǐ)束、X射線等照射或輻射下,光刻膠溶解度會發生變化,再經適當溶劑溶去可溶性部分,便可實現圖(tú)形從掩模版(bǎn)到待加工基片上的轉移。進一步,未溶解部分(fèn)光(guāng)刻膠作為保護層(céng),在刻蝕步(bù)驟中(zhōng)保護其下方材料不被刻蝕,從而完(wán)成(chéng)電路製作。產品分類上,...
聯係(xì)手機:13827207551
公司傳真:0769-23295152
公司地址:廣東省東莞市高埗鎮莞潢北路71號廠房