IC光刻（kè）膠

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082023-03

【光刻膠】2023年中國行業市（shì）場發展前景如何（hé）？

光刻膠又稱光致抗蝕劑，本質是一種感光材料，是（shì）電子領域微細圖形加工的關（guān）鍵性材料，在半導（dǎo）體、LCD、PCB等行（háng）業的（de）生產中具有重要作用。近年來，隨著集成電路的快速發展（zhǎn），光（guāng）刻膠行業景氣度不斷提（tí）高。

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302022-07

【光（guāng）刻膠】國產化，芯（xīn）片（piàn）製造裏的關（guān）鍵一役

2021年2月，位於日本東北地區最南部的福島縣發生了一場7.3級地震。這（zhè）場地震（zhèn）雖沒有像2011年那場9級地震（zhèn）一樣導致核電廠泄漏，但卻造成了（le）設立（lì）在福（fú）島縣周邊半導（dǎo）體工廠的數日（rì）停產。汽車芯片大廠瑞薩電子的那坷工（gōng）廠、位於宮城縣的索尼半導體工廠，與福島鄰近的岩手、群馬等地，也匯集了MLCC廠商TDK和太陽誘電，以及存儲器廠商鎧俠...

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022022-07

【光刻膠】需求穩步向上，光（guāng）刻膠國產化迎機（jī）遇期！

光刻膠本質是一（yī）種感光材料，也稱光致抗蝕劑，主要用於（yú）微電子（zǐ）技術中微細圖形（xíng）加（jiā）工。在紫外光、電子束、離子束、X射線等照（zhào）射或輻射下，光刻膠溶解度會發生變化，再經（jīng）適當溶劑溶去可溶性部分，便可實現圖形從（cóng）掩模版到待加（jiā）工基片上的轉移。進（jìn）一步，未溶解部分光刻膠作為保護層，在（zài）刻（kè）蝕步驟中保護其下（xià）方材料（liào）不被刻蝕，從而完成電路製作。產（chǎn）品分類上，...

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【光刻膠】2023年中國行業市（shì）場發展前景如何（hé）？

【光（guāng）刻膠】國產化，芯（xīn）片（piàn）製造裏的關（guān）鍵一役

【光刻膠】需求穩步向上，光（guāng）刻膠國產化迎機（jī）遇期！

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